產品概述： 本沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩定、模塊化結構，采用行業使用的軟件控制系統。

產品概述： 本沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩定、模塊化結構，采用行業專用的軟件控制系統。

本沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩定、模塊化結構，采用行業專業的軟件控制系統。 設備用途： 用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。

沈陽科儀高真空定向凝固系統--DHN400 真空室結構:圓筒形上開蓋 真空室尺寸::φ440x500mm 極限真空度:≤6.67E-5Pa 沉積源:無 樣品尺寸，溫度:約p80mmx230mm，1800°C 占地面積(長x寬x高):約2米x2米x2米 電控描述:手動 工藝:不含工藝

沈陽科儀高真空單輥旋淬及噴鑄系統--XC500 真空室結構:圓筒形前開門 真空室尺寸:φ500X300mm 極限真空度:≤6.67E-5Pa 沉積源: 樣品尺寸，溫度:感應熔煉10克純鐵樣品，在30秒鐘內化 占地面積(長x寬x高):約2.7米x1.4米x2米 電控描述:手動 特色參數: 高速輥輪線速度0-50m/s可調;坩堝手動直線進給機構;條帶接收器:Ф125x1500

沈陽科儀高真空電子東蒸發薄膜沉積系統--EB700 真空室結構: U形前開門 真空室尺寸:700x700x900mm 極限真空度:≤6.6E-5Pa 沉積源:6個40cc坩堝 樣品尺寸，溫度:4英寸，26片，最高300℃C 占地面積(長x寬x高):約3.2米x3.9米x2.1米 工藝:片內膜厚均勻性:≤3% 特色參數: 工件架有拱形基片架和行星形基片架:可根據用戶基片尺