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    高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品簡介

    產(chǎn)品概述:
    本沉積系統(tǒng)可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩(wěn)定、模塊化結構,采用行業(yè)專用的軟件控制系統(tǒng)。

    產(chǎn)品型號:PVD500
    更新時間:2026-01-19
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    訪問量:53
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    產(chǎn)品概述:
    本沉積系統(tǒng)可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩(wěn)定、模塊化結構,采用行業(yè)專用的軟件控制系統(tǒng)。

     

    設備特點:

    本設備是一個鍍膜平臺,可把磁控靶拆下?lián)Q電子槍成為電子束鍍膜系統(tǒng)、或換蒸發(fā)源作為熱蒸發(fā)系統(tǒng)、或換上離子槍作為離子束鍍膜系統(tǒng)等。

    設備用途:
    用于納米級單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。
     

    PVD500產(chǎn)品參數(shù):

    真空室結構:方形前開門

    真空室尺寸:φ500x500x500mm

    極限真空度:≤3.0E-5Pa

    沉積源:永磁靶4套,φ2英寸

    樣品尺寸,溫度:φ4英寸,1片,最高800℃

    占地面積(長x寬x高):約2米×1.7米×2米

    電控描述:全自動

    工藝:片內(nèi)膜厚均勻性:≤±3%


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