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    當(dāng)前位置:首頁(yè)產(chǎn)品中心實(shí)驗(yàn)室常規(guī)儀器合肥科晶VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀
    三靶磁控濺射儀

    產(chǎn)品簡(jiǎn)介

    VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。

    產(chǎn)品型號(hào):VTC-600-3HD
    更新時(shí)間:2026-01-06
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    訪問量:2227
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    VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀

    產(chǎn)品概述:

    VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備,特別適用于實(shí)驗(yàn)室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等。

    主要特點(diǎn):

    • 可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛 
    • 體積小,操作簡(jiǎn)便 
    • 真空腔室、真空泵組整機(jī)模塊化設(shè)計(jì) ,控制電源為分體式設(shè)計(jì),可根據(jù)用戶實(shí)際需要調(diào)整購(gòu)買需求。 
    • 可根據(jù)用戶實(shí)際需要選擇電源,可以一個(gè)電源控制多個(gè)靶槍,也可多個(gè)電源單一控制靶槍

    磁控濺射頭:

    • 儀器中安裝有3個(gè)磁控濺射頭,而且都帶有水冷夾層
    • 其中一個(gè)濺射頭與射頻電源相連接,主要是濺射絕緣性靶材
    • 另一個(gè)濺射頭與直流電源相連接,主要濺射導(dǎo)電性靶材 
    • 靶材尺寸要求:直徑為50mm,厚度0.1-5mm(因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同) 
    • 可以單獨(dú)訂購(gòu)RF連接線作為備用
    • 設(shè)備包含一臺(tái)水冷機(jī),用于靶頭冷卻

    載樣臺(tái):

    • 載樣臺(tái)尺寸:φ140mm(大可放 置4"的基底) 
    • 載樣臺(tái)可以旋轉(zhuǎn),其速度為:1 - 20 rpm (可調(diào)) 
    • 載樣臺(tái)高可加熱溫度為500℃

    真空腔體:

    • 真空腔體:φ300 mm×300 mm H,采用不銹鋼制作 
    • 觀察窗口:Φ100 mm 
    • 腔體打開方式采用上頂開,使得換靶更加容易

    氣體流量控制器:

    • 儀器內(nèi)部安裝有2個(gè)質(zhì)量流量計(jì),量程為:0-100sccm 
    • 氣體流量設(shè)置可以在6英寸的觸摸屏上進(jìn)行操作 
    • 此系統(tǒng)運(yùn)行需要Ar氣,并且氣瓶上安裝有減壓閥(設(shè)備中不包含)

    真空系統(tǒng):

    • 配有一套GZK-103D分子泵系統(tǒng)(德國(guó)制作) 
    • 標(biāo)準(zhǔn)5E-5mbar 極限7.4E-6mbar

    薄膜測(cè)厚:

    • 一個(gè)精密的石英振動(dòng)薄膜測(cè)厚儀安裝 在儀器上,可實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)薄膜的厚度,分辨率為0.10 Å
    • LED顯示屏顯示,同時(shí)也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)

    產(chǎn)品外形尺寸:

    • L1300mm×W660mm H1200mm 
    • 凈重:160 kg

    質(zhì)量認(rèn)證:CE認(rèn)證

    使用提示:

    • 此設(shè)備為DIY設(shè)備,參數(shù)變化較大購(gòu)買前請(qǐng)務(wù)必電話仔細(xì)溝通 
    • 為了得到的薄膜質(zhì)量,必須通入高純氣體(建議> 5N) 
    • 在濺射鍍膜前,確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺(tái)的潔凈 
    • 要達(dá)到薄膜與基底良好結(jié)合,請(qǐng)?jiān)跒R射前清潔基材表面 
    • 超聲波清洗(詳細(xì)參數(shù)點(diǎn)擊下面圖片):(1)丙酮超聲(2)異丙醇超聲-去除油脂(3)吹氮?dú)飧稍?(4)真空烘箱除去水分。 
    • 等離子清洗:可表面粗糙化,可激活表面化學(xué)鍵,可祛除額外的污染物。
    • 制造一個(gè)薄的緩沖層(5納米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以應(yīng)用于改善金屬和合金的附著力。

    警示:

    • 注意:產(chǎn)品內(nèi)部安裝有高壓元件,禁止私自拆裝,帶電移動(dòng)機(jī)體 
    • 氣瓶上應(yīng)安裝減壓閥(設(shè)備標(biāo)配不包括),保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕以下,以安全使用 
    • 濺射頭連接到高電壓。為了安全,操作者必須在關(guān)閉設(shè)備前裝樣和更換靶

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